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拋光軌跡對拋光性能的影響

來源:m.illumination-sh.com  時間:2015-11-10  點擊數(shù):

  拋光精度,即拋光性能,是平面拋光機廠家和客戶都重點關注的焦點。那么影響平面拋光機拋光性能的因素是什么呢?拋光軌跡是影響拋光性能根本的因素。

  平面拋光機的拋光軌跡根據(jù)加工工件及加工盤的不同相對運動,有定偏心研磨軌跡、不定偏心研磨軌跡、直線式研磨軌跡、搖擺式研磨軌跡、方形分形研磨軌跡,行星式研磨軌跡等等。

  定偏心研磨軌跡的工件材料去除均勻性較差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直徑不大于200mm的小尺寸工件,其中高精密研磨拋光機就是這種。

  不定偏心式研磨軌跡,其均勻性明顯好于定偏心式軌跡,有利于工件面形精度的提高。適合于直徑大于200mm的大尺寸工件的加工。

  直線式研磨使用的不是拋光盤,而是具有柔性的砂帶,工件做單純的回轉運動。平面研磨拋光機自修整機構的刀具在研磨盤上的軌跡也就是這種。

  搖擺式研磨軌跡比定偏心雙軸式或直線式研磨更均勻。軌跡在加工面中心呈幾種的趨勢,是工件加工面中心處有凹陷的現(xiàn)象。

  行星式平面研磨運動軌跡最常見用于雙面研磨機,當改變研磨盤轉速和太陽轉速之比時,工作效率及材料去除率會發(fā)生變化。

  以上就是平面拋光機和拋光軌跡分類及他們對拋光效果的影響,不同的工件適合使用不同的拋光軌跡,希望這些內容能夠幫助你做好拋光工作。

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