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平面拋光機(jī)廠家
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平面拋光機(jī)的兩個(gè)拋光要素

來(lái)源:m.illumination-sh.com  時(shí)間:2015-12-21  點(diǎn)擊數(shù):

  平面拋光機(jī)工作的時(shí)間和速度這兩個(gè)拋光要素是密切相關(guān)的,與加工過(guò)程中工件所走過(guò)的路程成正比,拋光時(shí)間過(guò)長(zhǎng),不僅加工精度趨向穩(wěn)定不再提高,甚至?xí)蜻^(guò)熱變形喪失精度,并使拋光效率降低。實(shí)踐表明,在拋光的初始階段,工件幾何形狀誤差的消除和表面光潔度的改善較快,而后則逐步緩慢下來(lái)。

平面拋光機(jī)的圖片

  通過(guò)平面拋光機(jī)工作原理的分析可知;拋光開(kāi)始階段因有工件的原始粗鍵度及幾何形狀誤差,工件與研具接觸面積較小,使磨粒壓下較深。隨著拋光時(shí)間增加,磨粒壓下漸淺,通過(guò)工件橫截表面的磨粒增多,幾何形狀誤差很快變小而表面光潔度構(gòu)改善也較快。當(dāng)基本消除幾何形狀誤差之后,工件與研具上的磨粒接觸較多,此時(shí)磨粒壓下深度較淺,各點(diǎn)切削厚度趨于均勻。拋光時(shí)間再長(zhǎng)些,則通過(guò)工件橫截面磨粒數(shù)量增多,對(duì)工件精度的改善則變得緩慢了。超過(guò)一定的拋光時(shí)間之后,磨粒鈍化得更細(xì),壓下更淺,切削能力也更低了,并逐漸趨向穩(wěn)定。

  對(duì)粗拋光來(lái)說(shuō),為獲得較高的拋光效率,其拋光時(shí)間主要應(yīng)根據(jù)磨粒的切削快慢來(lái)確定。對(duì)精拋光來(lái)說(shuō),實(shí)驗(yàn)曲線表明,拋光時(shí)問(wèn)在1~3分鐘范周,對(duì)拋光效果的改變已變緩,超過(guò)3分鐘,對(duì)拋光效果的提高沒(méi)有顯著變化。

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