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平面拋光機的拋光運動和軌跡

來源:m.illumination-sh.com  時間:2018-01-02  點擊數(shù):

  在平面拋光機加工中,選擇合理的運動方式以及拋光軌跡是極為重要的一步,拋光運動和拋光軌跡將會直接影響拋光的精度以及生產(chǎn)的效率。所以,平面拋光機在拋光加工運動中,拋光運動和軌跡應(yīng)滿足以下幾點。

  1、在加工工件時,平面拋光機整個拋光運動自始至終都應(yīng)該力求平穩(wěn)。

  2、拋光運動應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸拋光拋光盤的全部表面。

  3、所選用的拋光運動應(yīng)使運動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過早地出現(xiàn)重復(fù)。

  4、在平面拋光機的拋光運動中,研具與工件之間處于浮動的狀態(tài),而不應(yīng)是強制的限位狀態(tài)。

  5、拋光運動應(yīng)保證工件受到均勻拋光即被研工件表面上的每一點所運動的路程應(yīng)盡量相等。

  為了保證平面拋光機平穩(wěn),安裝拋光機的地方要平坦,而且堅固,拋光絕對不能安裝在木質(zhì)地板上。另外,在拋光過程中要使用拋光液,拋光液可以提高拋光效果。

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